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典型工藝

分割線

18.2MΩ降TOC超純水制水典型工藝:

原水→水箱→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→阻垢劑添加→254 nm紫外線(UV)殺菌裝置→一級RO裝置→二級RO裝置→中間水箱→脫氣膜組裝置→EDI裝置→氮封純水箱→185nm除TOC紫外線(UV)裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點。

集成電路超純水水質(zhì)要求及制水工藝

集成電路(IC)是以光學(xué)方式把回路印刷到硅芯片上。芯片上的組件或連接組件間的配線線徑極微細,只有1~2um或更小。其間若有微粒或微生物附著,易使回路短路。制程中需使用大量高純度的純凈水洗凈,以保有高的良率,以制造1Mbit的DRAM產(chǎn)品其水質(zhì)技術(shù)要求如下:

1Mbit DRAM產(chǎn)品的超純水要求規(guī)范
項目可達到值可接受值項目可達到值可接受值
電阻,25℃18.218Br-<0.10.1
TOC, ×10-9<10<30NO3-<0.10.1
粒子數(shù)/LSO24-<0.050.2
SEM法總離子<0.5<0.7
0.2~0.3μm<2000殘留物,mg/L<0.10.1
0.3~0.5μm<200<200金屬,μg/L 
>0.5μm<1<1Li<0.030.05
粒子數(shù)/LMg<0.020.05
激光法Ca2<2.0
>0.5μm<100Sr<0.010.05
細菌數(shù)/100mLBa<0.010.05
培養(yǎng)法0<6B<0.052
SEM法<1<10Al<0.050.05
EPI法<5<50Cr<0.020.05
溶解的SiO2,μg/L<0.4<4Mn<0.020.05
硼,μg/L<0.052Fe<0.020.1
離子,μg/LNi<0.020.05
Na+<0.050.1Cu<0.020.05
K+<0.10.1Zn<0.020.05
Cl-<0.050.1Pb<0.020.05

為生產(chǎn)出符合要求的超純水,各國均發(fā)展出不同方式之設(shè)備,此處謹以RO反滲透為主要之處理流程供參考。超純水系統(tǒng)流程:

集成電路超純水工藝流程
1.進水泵浦(交替運轉(zhuǎn))10.254nm紫外線殺菌器
2.活性碳過濾器11.陽離子床
3.軟化過濾器12.陰離子床
4.精密過濾器13.0.45電子級濾芯
5.抑垢劑用泵14.185nm紫外線殺菌器
6.高壓增壓泵15.增壓輸送泵
7.RO單元16.精煉混合床
8.貯存槽17.254nm紫外線殺菌器
9.純水輸送泵18.0.2um電子級濾芯
注:上列流程謹供參考

典型醫(yī)藥用純水制備工藝流程

純化水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):

傳統(tǒng)工藝原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點。

新工藝原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點。

推薦新工藝原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→第一級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→ 微孔過濾器→用水點。

新工藝制藥純化水系統(tǒng)設(shè)備清單(以2t/h純化水設(shè)備為例):

序號名稱規(guī)格、型號產(chǎn)地單位數(shù)量備注
1自來水加壓泵CHI8-20 8t/h丹麥1壓力自動控制
2多介質(zhì)過濾器JCW180/440 2162美國1自動反沖洗
3活性炭過濾器JCF180/440 2162美國1自動反沖洗
4全自動軟水器JWS180/440 2162美國1自動再生
5保安過濾器5μm國產(chǎn)1不銹鋼結(jié)構(gòu)
6第一級反滲透機RO3000(3t/h)組裝1膜脫鹽率99.2%
7加藥機0.47l/h美國1米頓羅
8中間水箱1000LPE國產(chǎn)1PH調(diào)節(jié)箱
9第二級反滲透機RO2000(2t/h)組裝1膜帶正電荷膜
10不銹鋼儲水罐2000L合資1316L不銹鋼
11紫外線殺菌燈2t/h國產(chǎn)1316L不銹鋼
12純凈水加壓泵CHI2-30丹麥1316L不銹鋼
13微孔過濾器0.22μm國產(chǎn)1316L不銹鋼
14管材及配件合資1316L不銹鋼